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半导体晶片的定位(化学气相沉淀)

目标
     1 通过化学气相沉淀方法将统一的胶片应用在硅晶片上。
     2 使化学物质沉淀在晶片上。
 
解决方案
     在沉淀开始前,Kaman传感器确保金属盘与喷洒器保持平行的位置关系,喷洒器用来均匀喷射气体(如图所示)。传感器则用来做校准装置,这样校准可以定位金属盘在一个合适的位置。Kaman系统提供了模拟和数字两种输出信号,以防止信号值超出可承受范围。如果金属盘倾斜,制动装置将校正其位置。
 
 特点
      1类型:SUM-9000
      2 直接测试: 一个环直接连接到弹簧浮板传感器可以直接测试气体喷射器的位置。
      3 无需接触:应用涡电流的技术,每一个传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。
      4  应用广泛。
 
相关资料:CVD应用手册
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