语言选择    
  过程控制
  精密测量
  航空航天应用
当前位置:首页 > 系统应用 >过程控制 >半导体晶片位置确定(物理气相沉淀)
 
半导体晶片位置确定(物理气相沉淀)

目标
    1 能够精确地调整和保持半导体晶片在进行物理气相沉淀(PVD)室中整齐排列。
    2 避免在进入沉淀室时,由于排列不整齐而造成晶片损坏。
    3 确保沉淀物统一地沉淀在晶片上。
 
解决方案
    在物理气相沉淀系统中,晶片会被放入不同的沉淀室里,每一个沉淀室用来沉淀不同的物质。传感器被安装在沉淀室的内侧(如图所示)。每个传感器测量载有晶片的传送器在沉淀室中的位置。Kaman系统提供了模拟和数字两种输出信号,以防止超出系统可承受的范围。
    结果:提高了时间和精度。
 
特点
     1 类型:SMU-9000
     2 非接触性:应用涡电流的技术,每一个传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。
     3 高分辨率:系统可识别
     4 重复性:  Kaman传感器可以提供高精度的性能,可以反复用于物理气相沉淀。
     5 系统多功能性:测量系统可以广泛用于测量的各个领域。
 
相关资料:PVD应用手册
新闻中心 | 网站地图 | 联系我们 | 法律声明 | 友情链接 版权所有©南京佳特威自动化科技有限公司((KAMAN测量系统中国区总代理)) All Right Resevied 苏ICP备14040083号-1