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半导体晶片位置的测定(平板影印术)

目标
      1对于在应用于半导体晶片的成产的平板影印术过程中,精确测定Z轴位置,精度保持在亚原子水平。
      2 保持高分辨率和可重复性。
      3 避免不良的影响,例如 抖动,磁滞,以及热漂移等一些列在其他阶段处理中发生的情况。
 
解决方案
      在精确控制Z轴高度的过程中,晶片所在的位置必须精确地在能源的焦平面上。Kaman系统可以准确测量Z轴的位置,并且提供了模拟和数字两种输出信号,以防止超出可承受范围。
 
特点
     1 类型:SUM-9000
     2 非接触性:应用涡电流的技术,每一个传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。
     3 高分辨率:系统可分辨出1纳米的位置改变。
     4 可重复使用。
     5 应用广泛。
 
相关资料:photolith应用手册
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